žinios

Žemiau mes išsamiai pristatysime įvairias TFT LCD ekrano charakteristikas:

(1) Didelio masto: pirmosios kartos didelio masto stiklo substratas (3000 mm x 400 mm) TFT 1990-ųjų pradžioje, stiklo pagrindo plotas išplėtė iki 6800 mm x 880 mm 2000 m. pirmąjį pusmetį, o 950 mm x 1200 mm stiklo substratas taip pat buvo pradėtas naudoti. neseniai.

(2) Didelė integracija: LCD projekcijos 1,3 colio TFT ekrano lusto skiriamoji geba yra XGA, kurioje yra milijonai pikselių. Rezoliucija yra. 16,1 colio TFT amorfinio SXGA silicio (1280x1024) plėvelės storis yra tik 50 nanometrų. TABONGLAS ir SYSTEMONGLASS techninė integracija, techniniai reikalavimai įrangai ir tiekimui bei techninis sudėtingumas yra didesni nei tradicinių LSI.

(3) Visos funkcijos: TFT skystųjų kristalų ekranas iš pradžių buvo naudojamas kaip matricos adreso pasirinkimo grandinė, kuri pagerino skystųjų kristalų šviesos vožtuvo charakteristikas. Didelės skiriamosios gebos ekranuose skystųjų kristalų ekranas gali pasiekti aukštos kokybės, didelės skiriamosios gebos ekraną, reguliuojant įtampą 0–6 ekrano V diapazone (įprastinė vertė yra 0,2–4 V) ir tinkamai valdant tikslinį elementą.

(4) Maža kaina: stiklo ir plastiko substratai iš esmės išsprendžia didelio masto puslaidininkinių integrinių grandynų sąnaudų problemą ir atveria plačią taikymo sritį didelio masto puslaidininkinių integrinių grandynų taikymui.

(5) Proceso lankstumas: be purškimo, lazerinio atkaitinimo technologijos, CVD (cheminis nusodinimas garais) MCVD gali pasirinkti amorfinę plėvelę, kelių produktų plėvelę ir vieno produkto plėvelę, be tradicinės plėvelės formavimo, pvz., molekulinio cheminio nusodinimo garais. Gali ne tik daryti silicio plėvelę, bet ir kitus dalykus. I-VI ir tetra-V puslaidininkinės plėvelės.

Bendrosiose taikymo srityse skystųjų kristalų skystųjų kristalų ekranas, pagrįstas TFT technologija, yra informacinės visuomenės ramstis, taip pat gali būti naudojamas greitam plonasluoksnių tranzistorių kūrimui. (TFT-OLED) plokščias ekranas.